-40～200℃ 全密閉制冷加熱循環(huán)器能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

-40～200℃ 全密閉制冷加熱循環(huán)器用途特點(diǎn)：

1、分3個(gè)系統(tǒng)：制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預(yù)冷系統(tǒng)，三個(gè)系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨(dú)使用。

2、快速加熱和冷卻，可連續(xù)升降溫。

3、溫度控制范圍寬，全程不需更換導(dǎo)熱介質(zhì)，導(dǎo)熱介質(zhì)消耗少。

4、全封閉循環(huán)系統(tǒng)，高溫時(shí)導(dǎo)熱流體不易揮發(fā)和氧化，低溫下不易吸入空氣中的水分，可延長(zhǎng)導(dǎo)熱流體的使用壽命。

5、高溫冷卻、制冷功能，可以從高溫直接降溫（如可從200℃直接降溫）。

6、制冷換熱器采用全釬焊板式換熱器，占用空間小，換熱效率高。

7、液位顯示功能，隨時(shí)監(jiān)控液位，避免缺液。

8、高溫切斷、急停、延時(shí)、漏電、過電流、過熱等多重保護(hù)功能，充分保證使用安全。

9、冷凝、預(yù)冷方式為風(fēng)冷，節(jié)約水資源。

GDZT-50-200-40高低溫循環(huán)裝置典型應(yīng)用：

1、化工、制藥或生物領(lǐng)域雙層及三層反應(yīng)釜的溫度控制。

2、攪拌罐的溫度控制。

3、材料測(cè)試中的應(yīng)用。

4、蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。

5、工藝過程中的溫度變化模擬控制。

6、恒溫控制系統(tǒng)。

7、半導(dǎo)體設(shè)備的溫度控制。

8、汽車工藝中熱測(cè)試平臺(tái)的溫度控制。

9、真空室的溫度控制。

GDZT-50-200-40高低溫循環(huán)裝置功能優(yōu)點(diǎn)：

1、智能型溫度控制。

2、溫度控制穩(wěn)定性好。

3、加熱和制冷速度快，可連續(xù)升降溫。

4、全密閉循環(huán)系統(tǒng)，延長(zhǎng)導(dǎo)熱油使用壽命。

5、采用磁力驅(qū)動(dòng)泵，整個(gè)溫度范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)零泄漏。

6、溫度范圍寬。

7、故障報(bào)警功能。

8、具有延時(shí)、過熱、過電流保護(hù)功能。

9、液位顯示功能，跟蹤監(jiān)控膨脹箱內(nèi)液位。

GDZT-50-200-40高低溫循環(huán)裝置控制優(yōu)點(diǎn)：

1、模糊運(yùn)算和PID主動(dòng)演算功能控溫精度高，可達(dá)到±0.5℃。

2、有預(yù)約功能，可設(shè)定設(shè)備自動(dòng)運(yùn)行時(shí)間。

3、有待機(jī)功能（控制溫度），可以準(zhǔn)確控制實(shí)驗(yàn)有效時(shí)間。

4、兩種控制方式（定值/程式）。

5、可顯示密閉制冷加熱循環(huán)裝置聯(lián)用負(fù)載的溫度變化曲線。

6、程式編程：可編50組程式，每組程式max為100段。

7、通訊接口。

GDZT-50-200-40高低溫循環(huán)裝置技術(shù)參數(shù)：